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    電子行業超純水設備應用工藝簡介

    文章來源:未知 責任編輯:唐山水處理工程師發表時間:2020-08-18 12:59

      電子行業超純水設備應用工藝簡介

      電子行業超純水設備主要應用于半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,線寬越窄,對水質的要求也越高。下面為大家介紹電子行業超純水設備應用工藝:

      1、電子行業超純水設備工藝設計共分為四部分:預處理系統、反滲透系統、EDI系統、終端供水系統。

      2、預處理系統主要用于去除原水中的懸浮物、濁度、色度、膠體以及部分有機物,保證產水符合反滲透系統的進水水質要求。

      3、反滲透系統主要用于去除原水中溶解性鹽類物質、細菌、熱源等,保證產水符合EDI系統進水水質要求。

      4、EDI系統主要用于對反滲透產水進行進一步脫除溶解性的小分子鹽類物質,產水電阻率達到18MΩ.cm左右。

      5、終端供水系統主要是用于將合格水輸送至用水點。

      電子行業超純水設備應用工藝不斷完善,為電子行業生產用水提供保障。

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